電加熱反應釜裝置-TCU溫度控制單元，用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制，可實現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

加熱控制裝置-TCU多臺反應釜溫度控制，用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制，可實現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

單流體加熱控制裝置-TCU溫度控制，用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制，可實現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

TCU-無錫冠亞多臺反應釜控溫設備SR-35NS，用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制，可實現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

TCU-無錫冠亞反應釜溫度控制系統SR-35N，用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制，可實現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

TCU-無錫冠亞反應釜控制ZLF-50NSH，用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制，可實現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。